Ácido Fosfórico Grado Semiconductor
Ácido Fosfórico – Grado Semiconductor
El ácido fosfórico grado semiconductor (H₃PO₄) es un químico de pureza ultra alta esencial para la fabricación de microelectrónica moderna. Este grado especializado supera con creces los requisitos de pureza del ácido fosfórico de grado industrial o alimenticio, alcanzando típicamente una concentración del 85% con impurezas metálicas controladas a niveles de partes por billón (ppb).
En la fabricación de semiconductores, el ácido fosfórico cumple funciones críticas que incluyen la limpieza de obleas de silicio, el decapado de fotorresistencia y el grabado selectivo de capas de nitruro de silicio durante la producción de chips. Su capacidad para grabar selectivamente Si₃N₄ mientras deja el dióxido de silicio relativamente intacto lo hace particularmente valioso en procesos de fabricación como el aislamiento LOCOS (Oxidación Local de Silicio) y la fabricación de dispositivos de memoria.
Las estrictas especificaciones de pureza son necesarias porque incluso trazas de contaminantes metálicos pueden comprometer el rendimiento del dispositivo, crear defectos o reducir el rendimiento en la fabricación de semiconductores. El control de calidad del ácido fosfórico grado semiconductor incluye pruebas rigurosas para metales (como Fe, Cu, Ni, Cr y metales alcalinos), partículas y otras impurezas que podrían interferir con las características a escala nanométrica en los circuitos integrados modernos.
A medida que la tecnología de semiconductores continúa avanzando hacia tamaños de nodo más pequeños y arquitecturas más complejas, la demanda de ácido fosfórico ultra puro y consistente sigue siendo una piedra angular de la cadena de suministro electrónica global.
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